เซมิคอนดักเตอร์ชิปห้องทำความสะอาด

ด้วยการพัฒนาอย่างรวดเร็วของวิทยาศาสตร์ และเทคโนโลยีชิปเซมิคอนดักเตอร์ได้กลายเป็นหนึ่งในองค์ประกอบหลักของผลิตภัณฑ์อิเล็กทรอนิกส์สมัยใหม่ เพื่อให้แน่ใจว่า คุณภาพ และประสิทธิภาพการผลิตของชิปเซมิคอนดักเตอร์การก่อสร้างห้องทำความสะอาดได้กลายเป็นสิ่งสำคัญ มีความต้องการสูงสำหรับคุณภาพอากาศของสภาพแวดล้อมการผลิต และคุณภาพอากาศ ที่เกี่ยวข้องกับอัตราผลตอบแทน และคุณภาพของผลิตภัณฑ์ อุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์จำนวนมากต้องการห้องทำความสะอาด

ทำความสะอาดเซมิคอนดักเตอร์อาร์หลักการ

ห้องทำความสะอาดเป็นห้อง ที่ออกแบบมาเป็นพิเศษ ที่ไม่รวมอนุภาคฝุ่นก๊าซ ที่เป็น อันตรายแบคทีเรีย และสารมลพิษอื่น ๆ จากอากาศภายในพื้น ที่บางอย่าง และควบคุมอุณหภูมิในร่มความสะอาดความดันในร่มความเร็วในอากาศการไหลของอากาศ และการกระจายเสียงการสั่นสะเทือนแสง และไฟฟ้าสถิตภายในช่วง ที่ต้องการ กล่าวอีกนัยหนึ่งอนุภาคฝุ่นในห้องควบคุมนี้ ค่อนข้างหายาก

ข้อดีของเทคโนโลยีห้องสะอาด

กระบวนการผลิตเซมิคอนดักเตอร์มีความต้องการสูงมาก และไวต่อสภาพแวดล้อม ที่มีฝุ่นมาก เทคโนโลยีการทำความสะอาดสามารถบรรลุการควบคุมสิ่งแวดล้อม ที่ดี และการกรอง ที่มีประสิทธิภาพทำให้กระบวนการผลิตปราศจากมลพิษ หรือมีมลพิษต่ำมาก สิ่งนี้ ให้ความเป็นไปได้ ที่ไม่ จำกัด สำหรับคุณภาพสูง และประสิทธิภาพสูงของกระบวนการผลิตเซมิคอนดักเตอร์

ในกระบวนการผลิตของผลิตภัณฑ์เซมิคอนดักเตอร์ ที่ทันสมัยข้อดี ที่สำคัญของเทคโนโลยีห้องสะอาด ได้แก่ :

1. ปรับปรุงประสิทธิภาพการผลิต: ชุดของปัจจัย เช่น อุณหภูมิความชื้น และความดันอากาศสามารถควบคุมได้ในห้องทำความสะอาดเพื่อควบคุมสภาพแวดล้อมการผลิต ที่ดีขึ้น ซึ่งจะช่วยปรับปรุงประสิทธิภาพการผลิต

2. ลดอัตราการปนเปื้อนผลิตภัณฑ์: อนุภาคในอากาศในห้องทำความสะอาดมีการกรองอย่างละเอียดด้วยมลพิษน้อยลง ซึ่งจะช่วยลดอัตราการปนเปื้อนของผลิตภัณฑ์

3. ปรับปรุงคุณภาพของผลิตภัณฑ์: สะอาด เทคโนโลยีห้องสามารถควบคุมสภาพแวดล้อมการผลิต และรักษาอุณหภูมิ และความชื้น ที่ค่อนข้างคง ที่ ซึ่งจะช่วยปรับปรุงคุณภาพของผลิตภัณฑ์

4. ลดต้นทุนการผลิต: ผ่านเทคโนโลยีห้องสะอาดอัตราความเสียหายของผลิตภัณฑ์สามารถลดลง และคุณภาพของผลิตภัณฑ์สามารถปรับปรุงได้ ในขณะเดียวกันก็ลดต้นทุนการผลิตลงด้วย

ความสะอาดของอากาศ

มาตรฐานความสะอาดของวัสดุเซมิคอนดักเตอร์ส่วนใหญ่จะแบ่งออกเป็นหลายระดับตั้ง แต่สูงไปจนถึงต่ำ: ชั้น 100 ชั้น 1000 ชั้น 10000 และชั้น 100000 ในหมู่พวกเขาระดับ 100 มาตรฐานความสะอาดเป็นสูงสุด และความต้องการมีความเข้มงวดมากในขณะ ที่ระดับ 10000 มีมาตรฐานความสะอาดค่อนข้างหลวม

มาตรฐานความสะอาดระดับ 100 คือ ระดับสูงสุดของความต้องการความสะอาดในวัสดุทำความสะอาดเซมิคอนดักเตอร์ห้องฉันไม่รู้ ในระดับนี้ ความเข้มข้นของอนุภาคในอากาศจะต้องต่ำมาก และจำนวนอนุภาคทั้งหมด ที่มีขนาดอนุภาคเท่ากับ หรือมากกว่า 0.5 มม.ต่อลูกบาศก์นิ้วของอากาศจะไม่เกิน 100 นอกจากนี้ ข้อกำหนดสำหรับจุลินทรีย์ยังเข้มงวดมากต้องการให้ไม่มีจุลินทรีย์เลย

มาตรฐานความสะอาดชั้นเรียน 1000 ต้องการให้ความเข้มข้นของอนุภาคในอากาศต้องไม่เกิน 1000 อนุภาคฝุ่น ที่มากกว่า หรือเท่ากับ 0.5 μ m ต่อลูกบาศก์เมตร ความต้องการของจุลินทรีย์นั้น ค่อนข้างต่ำ และอนุญาตให้มีจุลินทรีย์อยู่ได้หลายชนิด

มาตรฐานความสะอาดระดับ 10000 ต้องการให้ความเข้มข้นของอนุภาคในอากาศต้องไม่เกิน 10,000 ลูกบาศก์เมตร ความต้องการของจุลินทรีย์นั้น ค่อนข้างหลวม และอนุญาตให้มีจุลินทรีย์อยู่ได้หลายชนิด

100,000 ระดับความสะอาดมาตรฐานเป็นระดับต่ำสุดของความต้องการความสะอาดในวัสดุเซมิคอนดักเตอร์ห้องทำความสะอาด ในระดับนี้ ความเข้มข้นของอนุภาคในอากาศจะต้องไม่เกิน 100,000 ลูกบาศก์เมตร ข้อกำหนดสำหรับจุลินทรีย์นั้น ค่อนข้างหลวม และอนุญาตให้มีจุลินทรีย์จำนวนหนึ่งได้

ผลกระทบของความชื้นในห้องทำความสะอาด

1. การเติบโตของแบคทีเรีย

2. ช่วงของอุณหภูมิห้อง ที่คนงานรู้สึกสบาย 

3. รูปลักษณ์ของประจุไฟฟ้าสถิตย์

4. การกัดกร่อนโลหะ

5. การควบแน่นของไอน้ำ

6. ความเสื่อมสลายของการเขียนภาพ

7. การดูดซับน้ำ

การผลิตเซมิคอนดักเตอร์ยังมีข้อกำหนด ที่เข้มงวดมากสำหรับการควบคุมอุณหภูมิ และความชื้น โดยทั่วไปแล้วอุณหภูมิในห้อง ที่สะอาดจะถูกควบคุมระหว่า ง 20-24 องศาเซลเซียส และความชื้นจะถูกควบคุมระหว่า ง 30-60 % การควบคุมอุณหภูมิ และความชื้นมีผลกระทบ ที่สำคัญต่อประสิทธิภาพ และความน่าเชื่อถือของชิป

แบคทีเรีย และสารปนเปื้อนทางชีวภาพอื่น ๆ (เชื้อราไวรัสเชื้อราไร) สามารถสืบพันธุ์ได้อย่างแข็งขันในสภาพแวดล้อม ที่มีความชื้นสัมพัทธ์มากกว่า 60 % ความชื้นควรถูกควบคุมระหว่า ง 40 % ถึง 60 % เพื่อลดผลกระทบของการติดเชื้อของแบคทีเรีย และการหายใจ ซึ่งเป็นช่วงปานกลางเพื่อความสะดวกสบายของมนุษย์

จุดสำคัญของการออกแบบห้องทำงาน ที่สะอาด

1. ตอบสนองความต้องการของกระบวนการผลิตสำหรับการออกแบบสถาปัตยกรรม และตระหนักถึงพื้น ที่ และสิ่งอำนวยความสะดวกการผลิตสูง เมื่อมีการออกแบบแผนทั่วไปรูปแบบเครื่องบิน และส่วนการออกแบบการประชุมเชิงปฏิบัติการ ที่สะอาดของโครงการทำให้บริสุทธิ์การพิจารณาอย่างเต็มรูปแบบจะต้องให้กับการใช้งาน ที่มีเหตุผลของเว็บไซต์ และความต้องการของการผลิตกระบวนการ เมื่อออกแบบอาคารของโครงการทำความสะอาดการทำงานทำความสะอาดความสัมพันธ์ระหว่า งพื้น ที่สะอาด และพื้น ที่เสริม ที่เกี่ยวข้องจะต้องได้รับการจัดการอย่างดี

2. ตระหนักถึงสิ่งอำนวยความสะดวก ที่สามารถใช้งานได้ทางเศรษฐกิจประหยัดพลังงานง่ายต่อการรักษา และลดต้นทุนการก่อสร้าง การออกแบบสถาปัตยกรรมของการทำความสะอาดการประชุมเชิงปฏิบัติการต้องให้แน่ใจว่า การทำความสะอาดการทำงานสะอาดทำความสะอาดง่ายทำความสะอาดง่ายป้องกันมลพิษภายใน และภายนอก และป้องกันการผลิตการเก็บรักษา และการสะสมอนุภาค

3. ควรใช้ห้องปฏิบัติการ ที่เชื่อถือได้สูง การออกแบบสถาปัตยกรรมของการทำความสะอาดการทำงานให้บริสุทธิ์ควรให้แน่ใจว่า การดำเนินงาน ที่ปลอดภัยของอุปกรณ์อาคาร และให้แน่ใจว่า ความปลอดภัยของบุคลากร และทรัพย์สินในกรณี ที่เกิดอุบัติเหตุ โครงสร้างหลักควรมีระดับเกรด ที่สอดคล้องกับระดับของอุปกรณ์กระบวนการการรักษาอาคาร และการตก แต่งในการทำความสะอาดการทำความสะอาดห้องปฏิบัติการความทนทาน และความต้านทานไฟของการประชุมเชิงปฏิบัติการทำความสะอาด และการตก แต่งควรจะประสานงานกับระดับอุปกรณ์ ที่จะทำให้การลงทุนมีอายุการใช้งานนาน

4. สิ่งอำนวยความสะดวก ที่สามารถปรับตัวเข้ากับการเปลี่ยนแปลงในอนาคตควรตระหนักถึง เครื่องบินสถาปัตยกรรม และรูปแบบเชิงปริภูมิของการประชุมเชิงปฏิบัติการ ที่สะอาดควรมีความยืดหยุ่นในการสร้างเงื่อนไขสำหรับการปรับเปลี่ยนกระบวนการผลิต

มาตรฐานเซมิคอนดักเตอร์เป็นมาตรฐาน ที่สำคัญมาก ที่เกี่ยวข้องโดยตรงกับความสำเร็จของการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ เราสามารถมั่นใจได้ว่า คุณภาพอากาศอุณหภูมิ และความชื้นการควบคุมไฟฟ้าคง และด้านอื่น ๆ ของกระบวนการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ตรงตามความต้องการเพื่อให้แน่ใจว่า คุณภาพการผลิต และประสิทธิภาพของชิป ในกระบวนการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ในอนาคตมาตรฐานห้องทำความสะอาดจะยังคงมีบทบาท ที่สำคัญ และให้การสนับสนุน ที่แข็งแกร่งสำหรับการพัฒนาอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์